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硅靶材及镀膜材料系列/MATERIAL

单晶硅打孔靶材

 

中文名称: 单晶硅打孔靶材


发布时间: 2021-04-07 11:46:07


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材质:多晶硅或单晶硅

纯度:5N--6N

表面粗糙度:<Rz 0.8μm

尺寸及公差:根据客户要求定制


硅靶材主要用于平板显示器和微电子领域的溅射靶材

靶材的主要性能要求

纯度:纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。

密度:为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布:通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。

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